纯水设备

助力半导体制程技术突破高频科技先进超纯水工艺赋能行业“芯”发展

  随着无人驾驶、人工智能、物联网等技术的加快速度进行发展,对芯片性能提出了更高的要求。为满足这些要求,国内外加快了新制程研发的步伐。尤其是近几年,中国本土晶圆厂及上下游企业合力攻克技术难关,努力补齐本土高端芯片制造能力不够的短板,取得了显著进展,提升了国内半导体产业的核心竞争力。

  超纯水作为半导体产业链重要一极,在国内半导体走向高端的进程中发挥着至关重要的作用。以高频科技为代表的本土超纯水企业,积极把握我国半导体产业高质量发展机遇,以先进超纯工艺锤炼水质纯度,满足芯片生产用水需求,助力半导体制程技术突破,赋能行业新发展。

  在电子行业中,不同应用诸如半导体、液晶面板及各种电子元器件对超纯水的要求也各不相同。其中半导体代表了超纯水使用的“最高等级”。而半导体先进制程对杂质的敏感度更是极高,以一个中国大陆在建的12寸先进制程晶圆厂为例,按照美国ASTM标准,超纯水品质要达到以下苛刻的要求:电阻率≥18.20,颗粒掌握核心超纯工艺,助力先进制程提速

  高频科技作为立足于超纯工艺能力的工业级技术服务商,致力于为半导体高端制造等行业客户,提供领先的超纯水与循环再生解决方案及装备。

  据了解,高频科技在超纯水领域深耕二十余年,以科学技术创新为本,不断突破关键技术壁垒,目前已经积累知识产权成果超50项,发明专利及实用新型专利超30项,软件著作权20多项。高频科技所设计研发的超纯水设备系统涉及超过18项专业处理工艺环节、8次增压提升,保证产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,以电子级高端品系超纯水为先进制程产品生产提供保障。

  高频科技超纯水制备标准如下:电阻率(25摄氏度)≥18.24MΩ·厘米;总有机碳小于0.5微克/升;溶解氧小于1微克/升;大于0.05微米的微粒每升小于100个;细菌含量小于1/100毫升;总硅含量小于0.5微克/升;溶解硅含量小于0.3微克/升;硼含量小于0.005微克/升。

  在半导体制程中,超纯水不仅要求纯净,还要求稳定和可靠。任何水质的波动或变化都可能会引起制程的不稳定性和产品的不合格。因此,超纯水的质量控制必须很严格,包括对水质的监测、调节和维护等方面。如果单纯依靠人工管理,无疑费时费力,同时还难以实现数据驱动决策。基于此,高频科技依托大批自有优秀半导体水系统专家的资深经验,创立标准化运维专家模型,为半导体工厂量身定做一体化运维服务体系。借助该系统,半导体公司能够实现常规周期巡检、可预见养护、应急故障处理等,满足全周期运维需求,实现规范管理、降本增效。此体系将逐步实现专家数据化,让企业运维管理更加省事和舒心,同时以数据化提升决策能力和响应速度。

  半导体产业是国家经济发展的重要支撑,也是科学技术创新的核心驱动力。在半导体制作的完整过程中,清洗硅片及半导体材料所使用的超纯水,慢慢的变成了影响电子元器件产品质量和成品率的关键材料之一。相信高频科技在内的本土超纯水企业,将继续秉持着高度的责任感和使命感,不断的提高超纯水技术的研发创造新兴事物的能力,为半导体先进制程的可靠性和稳定性生产提供支持,为半导体产业的“强芯”之路做出新的贡献。

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