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最新半导体工业用超纯水的制备进程详解
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  一般水源水都难以满意超纯水的要求,在超纯水的和制备 进程中,预处理是十分必要的。絮凝沉积、氧化、吸附是最常 用的预处理工艺流程。原水屮参加絮凝剂或选用电解絮凝方 式,能够去除悬浮物、胶体和少部分有机物。氧化主要是去除 易生物降解的有机物和氨氮。吸附相同去除水屮的悬浮物和胶 体。

  半导体超纯水设备大多数都用在高技能的工业生产进程,特别 是半导体这种要求比较高的技能顶级职业,对水质要求十分严 格。

  超纯水的深度处理工艺需求选用最有用的水处理资料和最 先进的水处理单元设备,最常用的便是反渗透清水设备,反渗透是 现代超纯水制备的中心。超纯水处理工艺一般为:原水一多介 质过滤器一活性炭过滤器f精细过滤器f保安过滤器f反渗透 设备一混床一超滤设备一超纯水。终端的超滤设备可进一步降 低微粒和细菌的含量。

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